培养基中组分产生沉淀的原因不包括（)

A.高流量给氧

B.高浓度给氧

C.高压给氧

D.低流量低浓度持续性给氧

E.酒精湿化给氧

A.减缓组分的物理挥发作用

B.减缓组分与干扰物的化学反应速度

C.掩蔽干扰物

D.抑制生物的活动

A.pH

B.维生素

C.氨基酸

D.二价金属离子

E.高浓度葡萄糖

A.PH

B.温度

C.压力

D.溶氧度

A.中和段

B.厌氧段

C.好氧段

D.沉淀段

A.加压给氧

B.高流量、高依度间断给氧

C.高流量、高浓度持续给氧

D.低流量、低依度持续给氧

E.流量低浓度间断给氧

A.钛离子

B.铜离子

C.铁离子

D.铝离子

A.高温高压

B.低温低压

C.低温高压

D.高温低压

A.氧离子

B.氢离子

C.铁离子

D.铜离子

A.琼脂的质量好坏

B.高压灭菌的温度时间

C.高压灭菌的时间

D.培养基的Ph